日本東京大學(xué)開發(fā)出新一代半導(dǎo)體加工技術(shù)封裝基板布線用孔降至6微米以下

2022-11-16 13:40:09來源:

導(dǎo)讀 11月16日電，東京大學(xué)的教授小林洋平等人攜手味之素Fine-Techno（川崎市）等，開發(fā)出了在半導(dǎo)體封裝基板上形成直徑6微米（微米為100萬分之1

11月16日電，東京大學(xué)的教授小林洋平等人攜手味之素Fine-Techno（川崎市）等，開發(fā)出了在半導(dǎo)體封裝基板上形成直徑6微米（微米為100萬分之1米）以下微細(xì)孔洞的激光加工技術(shù)。利用此次開發(fā)的技術(shù)，可在Fine-Techno的絕緣薄膜上形成布線用的微細(xì)孔洞。利用此前的技術(shù)，約40微米是極限。此次是與三菱電機(jī)、涉足激光振蕩器的Spectronix（大阪府吹田市）的聯(lián)合研究成果。